ADEKAの金属酸化物レジスト（MOR）

6/1/2026

「半導体レジストの新星「MOR」、ADEKAが材料　東エレクに米社挑む」という日経クロステックの記事を読みました。半導体製造の微細化が限界に達する中、次世代の露光技術であるHigh-NA EUVへの対応が急務となっていて、従来の有機レジストに代わり、光吸収率と解像度に優れた金属酸化物レジスト（MOR）への転換が、物理的制約を打破する鍵として注目されているということです。
この技術革新を受け、ADEKAは32億円を投じて新プラントを建設し、2028年の量産開始を目指す戦略を打ち出し、大きな影響をあたえているようです。
金属酸化物レジスト（MOR）に関して生成AIに深掘りさせました。
さらに、結果をNotebookLMでインフォグラフィック、スライド資料にさせました。
なお、生成AIによる調査・分析結果は、公開された情報からだけの分析であり、必ずしも実情を示したものではないこと、誤った情報も含まれていることについてはご留意されたうえで、ご参照ください。

半導体レジストの新星「MOR」、ADEKAが材料　東エレクに米社挑む2025.12.12
https://xtech.nikkei.com/atcl/nxt/column/18/00001/11259/

As the miniaturization of semiconductor manufacturing approaches its physical limits, there is an urgent need to respond to High-NA EUV, the next-generation lithography technology. Against this backdrop, a shift from conventional organic resists to metal oxide resists (MOR)—which offer superior light absorption and resolution—has been drawing attention as a key to overcoming fundamental physical constraints.
In response to this technological innovation, ADEKA has announced a strategy to invest 3.2 billion yen in the construction of a new plant, aiming to begin mass production in 2028, a move that appears to be having a significant impact on the industry.
We asked generative AI to conduct an in-depth analysis of metal oxide resists (MOR).
Furthermore, the results were converted into infographics and presentation slides using NotebookLM.
Please note that the research and analysis conducted by generative AI are based solely on publicly available information and may not necessarily reflect actual conditions; they may also contain inaccuracies. Kindly review the materials with this understanding.

0 Comments

よろず知財コンサルティングのブログ